某半导体技术解决芯片生产厂在晶圆精加工历程中，用到硅烷使用硅本质萌发，空气清洗塔生产高溶度含硅废气。废气含有pH震荡大（2-11）、硅浓度高的性能，传统型解决最简单的方法易导致硅垢拥堵毛病。 废渣组成及來源 生产废水通常成分表为： 水解性硅酸盐 ：SiO₂氧浓度达1000-1500mg/L 氢氧化的钠/氢氧化的钠 ：洗洁塔酸性洗洁液使用量 颗料硅 ：纳米技术级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：工业原料溶物携带 治疗新工艺操作流程 技术创新用"多级结合+膜过滤系统+汽化沉淀"加工制作工艺 ： 一层结合 ：用CaO改善pH至4-5，转成硅酸钙析出，硅去掉率60%。 2级中合 ：加Na₂CO₃将pH大幅提升至9，进第一步凝固余量硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透装置设计 ：0.02μm卫浴陶瓷膜过滤水奈米级硅颗粒状，通量稳定可靠在80LMH。 MVR多效真空泵 ：精炼高盐电镀废水，析出出Na₂SO₄副货品，水造纸废水处理率超90%。 之后成果 总硅从1500mg/L减少为5mg/L下面的 砷含磷量从0.8mg/L降到0.01mg/L 系统软件无水垢运动以上2年 第年再利用磷酸钠单晶体约800吨