某半导体技术生产制造厂家因晶圆刷洗工艺流程造成含氨废气，的水量200吨/天。废气中除挥发酚外还包含有氟化物和氢化物发生器巨资属，加工难度系数大。当地政府排出标淮耍求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 焦化废水部分及源 晶圆拆洗污水（最主要的来源地）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序化工废水：含氢化物发生器铜、镍等天价属，pH值震荡大 CMP磨细废水处理：含硅顆粒及挥发酚 处置新工艺操作流程 利用"催化乳浊液+膜隔离+折点氯化"女子组合生产技术： 预加工处理 ：污泥脱水CaCl2除氟，控制pH在7.5-8. 反渗透装置设备 ：的还原0.01μm往上顆粒物 反融合精提 ：将氯离子沉淀至1000mg/L以下 折点氯化 ：正确设定氯添加量，将氯离子被转化为离氮气 铁离子对换 ：维护高价属符合标准 终究结果 挥发酚安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属浓度高出检查限 水造纸废水处理率达75% 污泥干化引起量减轻40%